Abstract ：

　　近年来，国内采用电催化氧化法对垃圾渗滤液生化处理出水进行深度处理的报道越来越多。电催化氧化法是选用导电性、耐腐蚀俱佳的金属氧化物电极，利用其良好的电催化特性进行电解氧化的工艺。本文采用金刚石薄膜电极(BDD)和涂层钛电极(DSA)，采用电催化氧化法降解垃圾渗滤液生化出水，通过实验，探讨电催化氧化法深度处理垃圾渗滤液时BDD电极对比DSA电极的性能和效能优势。

Keyword ：

电催化氧化法 涂层钛电极 金刚石薄膜电极 深度处理垃圾渗滤液

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。

Abstract ：

自类金刚石薄膜发现以来，由于具有优越的物理性能，它的研究和应用都十分的广泛。因此，为了得到更好的性能，探索更佳的结构，早在上世纪80年代就已经开始了利用分子模拟的方法对它进行研究。本文就是在这种研究背景下，介绍了对类金刚石薄膜分子动力学研究的发展情况，并且对各个时期具有代表性的研究进行了简要的总结。然后，在文章的末尾指出了类金刚石模拟所面临的一些关键问题，并对其未来的研究方向进行了展望。

Keyword ：

Molecular Dynamics Simulation 分子动力学模拟 Interatomic Potentials 类金刚石薄膜 原子相互作用势Diamond-Like Carbon Films

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。

Abstract ：

以CH4和H2为反应气，采用微波等离子体增强化学气相沉积方法在直径为10 cm的硅原片上制备纳米金刚石薄膜。用X射线衍射仪、拉曼光谱、扫描电镜和原子力显微镜对薄膜的组成结构及性能进行表征。结果表明：薄膜的平均晶粒尺寸约为13.8 nm，厚度可达10.8μm，表面粗糙度约为11.8 nm；其拉曼光谱是典型的纳米金刚石薄膜的特征峰峰形，同时在高真空条件下对所制备的薄膜样品进行场发射性能测试。

Keyword ：

拉曼图谱 纳米金刚石薄膜 表面粗糙度 场发射性能

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。

Abstract ：

在大气下,采用大气压介质阻挡放电(DBD)等离子体枪在低温下＜350℃),以甲烷为单体,氩气为工作气体,在Ti6Al4V钛合金表面制备一层类金刚石薄膜(DLC),以期改善钛合金表面摩擦学性能.利用激光拉曼(Raman)光谱和X射线光电子能谱(XPS)分析了所制备DLC薄膜的结构；利用扫描电子显微镜(SEM)观察DLC薄膜的表面形貌；利用划痕仪测量了DLC薄膜与基体的结合力；利用球-盘摩擦磨损实验仪对DLC薄膜的耐磨性能进行了研究.结果表明:在本实验工艺条件下沉积的类金刚石薄膜厚度约为1.0 μm,薄膜均匀且致密,表面粗糙度Ra为13.23 nm.类金刚石薄膜与基体结合力的临界载荷达到31.0N.DLC薄膜具有优良的减摩性,Ti6Al4V表面沉积DLC薄膜后摩擦系数为0.15,较Ti6Al4V基体的摩擦系数0.50明显减小,耐磨性能得到提高.

Keyword ：

耐磨性能 大气压等离子体枪 钛合金 类金刚石薄膜

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。

Abstract ：

以丙烯酸酯、乙烯基硅氧烷为主要原料,以OP-10和十二烷基硫酸钠(SDS)为复合乳化剂,采用连续滴加法进行乳液聚合制备了有机硅改性丙烯酸酯乳液。结果表明,当甲基丙烯酸甲酯(MMA)与丙烯酸丁酯(BA)的质量比为1.2～1.0有机硅用量占单体质量分数3～10%时,可制得性能良好的硅丙乳液。

Keyword ：

金刚石薄膜 化学气相沉积 附着性能 高速钢 过渡层

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。

Abstract ：

采用大气压介质阻挡放电等离子体枪,在低温下(<350 ℃),以甲烷为单体,氩气为工作气体,在金属密封环表面制备一层附着牢固的类金刚石薄膜(DLC),以期改善其表面耐磨性能.利用激光拉曼(Raman)光谱分析所制备DLC薄膜的结构;利用原子力显微镜(AFM)分析其表面形貌;利用划痕仪测量其与基体的结合力;用扫描电子显微镜(SEM)观察其划痕形貌;并利用球-盘摩擦磨损实验仪考察其耐磨性能.结果表明:在本实验工艺条件下沉积的类金刚石薄膜厚度约为500 nm,薄膜均匀且致密,表面粗糙度为Ra5～6 nm,其与基体结合力达到49 N;制备的DLC薄膜具有优良的减摩性,其摩擦因数为0.148,较基体20CrNiMo的摩擦因数0.65明显减小,且耐磨性能得到提高.

Keyword ：

金属密封环 磨损性能 大气压等离子体枪 类金刚石薄膜

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。

Abstract ：

采用电化学沉积法,开展液相中类金刚石薄膜的制备工艺和理论的研究,对于完善类金刚石薄膜的合成技术,开拓类金刚石薄膜的应用领域,具有很重要的理论意义和实用价值.本文概述了液相电沉积技术的基本原理和方法,重点从四个方面介绍了电化学方法制备类金刚石薄膜的研究进展,总结了该方法所制备样品的性能,并对可能的反应机制作了综合性的阐述,最后对液相电沉积类金刚石薄膜的发展前景进行了展望.

Keyword ：

类金刚石薄膜 液相电化学沉积

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。

Abstract ：

采用电化学沉积法开展液相中类金刚石薄膜的制备工艺和理论的研究,对于完善类金刚石薄膜的合成技术,开拓类金刚石薄膜的应用领域,具有很重要的理论意义和实用价值.本文概述了液相电沉积技术的基本原理和方法,重点从四个方面介绍了电化学方法制备类金刚石薄膜的研究进展,总结了该方法所制备样品的性能,并对可能的反应机制作了综合性的阐述,最后对液相电沉积类金刚石薄膜的发展前景进行了展望.

Keyword ：

类金刚石薄膜 液相电化学沉积

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。

Abstract ：

采用电化学沉积法开展液相中类金刚石薄膜的制备工艺和理论的研究,对于完善类金刚石薄膜的合成技术,开拓类金刚石薄膜的应用领域,具有很重要的理论意义和实用价值。本文概述了液相电沉积技术的基本原理和方法,重点从四个方面介绍了电化学方法制备类金刚石薄膜的研究进展,总结了该方法所制备样品的性能,并对可能的反应机制作了综合性的阐述,最后对液相电沉积类金刚石薄膜的发展前景进行了展望。

Keyword ：

类金刚石薄膜 液相电化学沉积

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。

Abstract ：

研究了多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备工艺及其场电子发射特性.以多孔硅作为生长金刚石突起阵列的模板,生长出带多微尖的微晶金刚石晶粒,使场电子发射阈值下降(＜1V/μm),发射电流增大(＞90mA/cm2),场发射性能稳定,并对这种场发射特性做出了理论解释.

Keyword ：

金刚石薄膜 多孔硅 场电子发射

Cite：

Copy from the list or Export to your reference management。