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朱彦旭 (朱彦旭.) | 范玉宇 (范玉宇.) | 曹伟伟 (曹伟伟.) | 邓叶 (邓叶.) | 刘建朋 (刘建朋.)

Indexed by:

CQVIP PKU CSCD

Abstract:

在制备串联高压LED阵列工艺中,ICP刻蚀工艺引起的漏电与断路问题是高压LED电流输运特性中的核心问题。本文着重从刻蚀深度、掩模材料以及隔离槽制备方面分析了ICP刻蚀工艺对高压LED的漏电、电极开路等电流输运问题的影响。通过随机抽取样品进行电学测试并结合SEM观测,对比了不同工艺过程,得出ICP工艺是导致串联高压LED阵列中可靠性问题的主要原因。并通过优选ICP刻蚀工艺,使高压LED电流输运特性得以改善,制备出~12 V的四串联高压LED阵列器件。

Keyword:

电流输运 高压LED 氮化镓

Author Community:

  • [ 1 ] 北京工业大学北京光电子技术实验室
  • [ 2 ] 中国联通北京分公司网管中心网络分析调度中心

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Source :

发光学报

Year: 2013

Issue: 10

Volume: 34

Page: 1362-1366

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