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利用射频磁控溅射法对半导体激光器的腔面镀SiO2膜,并对镀膜后的器件在恒定电流下进行了加速寿命实验,结果表明镀膜后器件的特性得到了很大改善.器件平均输出功率提高了49.8%,平均阈值电流下降了7%,平均斜率效率提高了50%,而且射频磁控溅射方法所镀的膜具有粘附性好,膜层致密、厚度易控制、稳定性好、成本低等优点,器件的可靠性也有明显提高.
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固体电子学研究与进展
ISSN： 1000-3819
Year： 2004
Issue： 2
Volume： 24
Page： 229-232
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