• Complex
  • Title
  • Keyword
  • Abstract
  • Scholars
  • Journal
  • ISSN
  • Conference
搜索

Author:

俞凤至 (俞凤至.) | 胡安红 (胡安红.) | 周星红 (周星红.) | 曲铭浩 (曲铭浩.) | 张津岩 (张津岩.) | 徐希翔 (徐希翔.) | 张铭 (张铭.) | 严辉 (严辉.) (Scholars:严辉)

Abstract:

光致衰退效应是制约非晶硅薄膜电池发展的一个重要因素.在非晶硅/微晶硅叠层电池中引入中间层结构可以对太阳光进行选择性分配,反射部分短波段的光,增加了非晶硅顶电池的光吸收从而减少顶电池的厚度,有效地提高了叠层电池的稳定效率.本文系统地研究了沉积功率、氢气稀释比H2/SiH4、CO2/SiH4等沉积参数对SiOx薄膜光电性能(晶化率、折射率、带隙、电导率等)的影响.经过工艺优化,获得了折射率为2.2、晶化率约为29%、光学带隙E04为2.38eV的n型nc-SiOx薄膜.并在0.79m2的TCO玻璃衬底上制备了具有优化的SiOx中间层非晶硅/微晶硅叠层电池,其光伏组件全面积初始转换效率达到12.8%.经过1000h光照后,稳定转换效率为11.1%.

Keyword:

太阳能电池 中间层结构 光电性能 制备工艺 氧化硅薄膜

Author Community:

  • [ 1 ] [胡安红]汉能高端装备产业集团 成都研发中心
  • [ 2 ] [周星红]汉能高端装备产业集团 成都研发中心
  • [ 3 ] [曲铭浩]汉能高端装备产业集团 成都研发中心
  • [ 4 ] [张津岩]汉能高端装备产业集团 成都研发中心
  • [ 5 ] [徐希翔]汉能高端装备产业集团 成都研发中心
  • [ 6 ] [俞凤至]北京工业大学薄膜科学技术与研究实验室
  • [ 7 ] [张铭]北京工业大学薄膜科学技术与研究实验室
  • [ 8 ] [严辉]北京工业大学薄膜科学技术与研究实验室

Reprint Author's Address:

Email:

Show more details

Related Keywords:

Source :

Year: 2014

Page: 221-227

Language: Chinese

Cited Count:

WoS CC Cited Count: 0

SCOPUS Cited Count:

ESI Highly Cited Papers on the List: 0 Unfold All

WanFang Cited Count: -1

Chinese Cited Count:

30 Days PV: 4

Online/Total:712/10681142
Address:BJUT Library(100 Pingleyuan,Chaoyang District,Beijing 100124, China Post Code:100124) Contact Us:010-67392185
Copyright:BJUT Library Technical Support:Beijing Aegean Software Co., Ltd.