Abstract：
用电子束蒸发法制备了c-BN薄膜。衬底采用单面抛光n型Si(100),在背底真空为1.3×10~(-3) Pa,电子枪束流为80 mA,衬底温度为室温的条件下蒸发镀膜40 min,再将BN薄膜样品在氮气保护下900℃退火1 h。所得BN薄膜含量用傅里叶变换红外光谱(FTIR)进行表征,c-BN薄膜中立方相含量约为90%。使用紫外-可见光谱仪采集薄膜样品的反射光谱R(λ),根据反射光谱R(λ)利用Kramers-Kronig变换关系,得到样品的折射率n和吸收系数α。
Keyword：
Reprint Author's Address：
Email：
Source ：
Year： 2008
Language： Chinese
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count：
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 3
Affiliated Colleges：
