Abstract：
采用 EBSD 技术对大冷轧变形量、再结晶退火后的 Ni-W 复合基带的表面织构进行了表征,对其晶粒取向信息、晶界特征等信息进行采集和分析．该基带经过冷轧和再结晶退火后,无需抛光,即可获得具有花样质量较高的 Ni 基复合基带表面的 EBSD 图像．经 Orientation Imaging Microscopy~(TM)(OIM)4．6软件分析, 结果表明该 Ni 基复合基带表面10°以内立方织构晶粒百分含量为97．9％．
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Year： 2007
Language： Chinese
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