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＜正＞一、引言物理气相沉积通常包括真空蒸镀,溅射镀及离子镀,离子镀膜技术是真空镀及溅射镀的结合,基本特点即是金属蒸汽原子在从蒸发源到基板(被镀金属)的迁移过程中,其中一部分被分离成金属离子,并在电场的加速下沉积在基板表面形成膜层。因此该工艺具有较好的
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Year： 1994
Language： Chinese
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