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本发明公开了基于短脉冲大电流的碳化硅MOSFET模块热阻测量方法,可用于碳化硅MOSFET模块或者分立器件的热阻准确测量。所述测量方法的适用条件为,(1)给定了施加栅压的区间;(2)给定了加热栅压与测试栅压的施加条件;(3)给定了测试电流的选取范围;(4)给定了脉冲宽度的选取标准。首先,根据适用条件做出特定测试脉冲电流等级下的校温曲线,得到温敏系数K值,利用测试源表及散热平台先进行碳化硅MOSFET分立器件的热阻测量,通过数据手册上的热阻值验证该测试条件的可行性,并用碳化硅MOSFET模块进行热阻测量的验证。利用该适用条件,可在短脉冲大电流正向导通压降法的基础上,无需增加额外设备,即可实现碳化硅MOSFET模块结温及热阻的测量。
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Patent Info :
Type: 发明授权
Patent No.: CN202111482805.0
Filing Date: 2021-12-07
Publication Date: 2023-10-10
Pub. No.: CN114217198B
Applicants: 北京工业大学
Legal Status: 授权
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