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基于半导体基底飞秒光制备微纳结构实现超疏水功能的方法，属于表面改性技术领域。包括以下步骤：采用热蒸镀法或磁控溅射法在半导体材料表面镀金属膜；利用飞秒激光加工技术通过在半导体金属镀膜表面制备微纳结构，提高半导体表面粗糙度，进而形成复合界面，在半导体材料和液体之间形成空气层，最终实现超疏水功能。传统的疏水结构一般是在金属表面、石英玻璃、TiO2或聚乙烯薄膜上制备得到，表面的机械稳定性差，固体和液体之间的气穴极易被液体充满。在苛刻的环境(例如碱性、酸性和盐溶液)中，将迅速失去其性能。利用飞秒激光加工技术对半导体材料表面进行改性，使其从亲水转变为超疏水。
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Type： 发明授权
Patent No.： CN202110421345.4
Filing Date： 2021-04-19
Publication Date： 2023-08-04
Pub. No.： CN113059269B
Applicants： 北京工业大学
Legal Status： 授权
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