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一种基于零折射率材料超表面的圆偏振选择性超快全光开关，属于全光开关技术领域。在SiO2基底上利用真空热蒸镀工艺镀有一层厚度100‑200nm的Au膜，在Au膜上利用磁控溅射镀膜技术沉积有厚度为100‑120nm的ITO膜，在ITO膜上制备有周期排列的金属Au微纳结构层。对左、右旋偏振光有着很强的选择性。利用飞秒激光控制，实现调制速度在飞秒量级。
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Type： 发明申请
Patent No.： CN202111046827.2
Filing Date： 2021-09-07
Publication Date： 2025-02-21
Pub. No.： CN114153101B
Applicants： 北京工业大学
Legal Status： 授权
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