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本发明公开了一种基于直反射三光路激光外差干涉渐开线样板测量的光学系统方法，本发明用于分析此光学系统的光学模型以及系统中光学元件的参数非理想对干涉能量和条纹对比度的影响。根据双频激光器出射光的偏振性质，结合系统中光学元件的琼斯矩阵，分别建立参考光干涉信号模型和三条测量光路的测量信号模型、干涉能量模型与干涉条纹对比度模型。结合模型分析分光镜分光比、偏振分光镜透射率和反射率、检偏器放置角度等相关参数对干涉能量和条纹对比度的影响。本发明对光学系统的搭建、光学元件的选择、测量系统的结构优化、测量结果的精度提高有着重要指导意义，提供了重要的理论参考。
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Type： 发明授权
Patent No.： CN202010741134.4
Filing Date： 2020-07-29
Publication Date： 2021-07-02
Pub. No.： CN112033300B
Applicants： 北京工业大学
Legal Status： 授权
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