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一种利用层叠结构提高聚变堆内壁抗等离子体辐照能力的方法，包括 : 将面向等离子体的材料制成多个金属片；根据垂直于壁面的方向将多个金属片层叠在一起；以及将层叠的多个金属片与铜基板结合。 本发明涉及核应用领域，适用于利用氢同位素进行聚变反应的装置内壁面向等离子体的表面。 该方法不仅减少了钨基材料表层下氢、氦及其同位素等的聚集，大大减少了钨基材料表面的起泡现象，而且减少了热疲劳开裂损伤。
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Type： 发明授权
Patent No.： US15122761
Filing Date： 2015-01-19
Publication Date： 2018-10-16
Pub. No.： US10102928B2
Applicants： Beijing University Of Technology
Legal Status： 未缴年费
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