Indexed by：
Abstract：
一种透射电镜双倾原位纳米压痕平台属于纳米材料力学性能-显微结构原位表征领域。该平台主要由粘接区(1)、支撑梁(2)、承载梁(3)、样品载台(5)与微型压头(4)组成，整体结构通过半导体微细加工技术制备。原位纳米压痕实验可采用热双金属片(7)、V型电热梁、压电、静电、电磁、记忆合金等方式进行驱动，样品通过聚焦离子束块体取样技术获得。该一体化平台可置于透射电镜(TEM)样品杆前端的狭小空间内，在双轴倾转条件下，驱动装置驱动微型压头(4)，在透射电镜中对材料进行原位纳米压痕、原位压缩和原位弯曲等实验。可以在亚埃、原子和纳米尺度下对材料的变形过程进行原位观察，研究其变形机制，揭示其显微结构与力学性能的关系。
Keyword：
Reprint Author's Address：
Email：
Patent Info ：
Type： 发明申请
Patent No.： WOCN16105381
Filing Date： 2016-11-11
Publication Date： 2017-04-06
Pub. No.： WO2017054782A1
Applicants： Beijing University Of Technology
Legal Status： 进入国家阶段-PCT有效期满
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count：
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 7
Affiliated Colleges：
