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本实用新型公开了一种被动调Q微片激光器，属于激光技术领域。主要包括激光增益介质、石墨烯或碳纳米管可饱和吸收体、光学元件以及LD泵浦装置。将厚度纳米量级的石墨烯、碳纳米管可饱和吸收体紧密夹贴于激光器增益介质与光学元件之间，利用器件镀膜构成平平腔或平凹腔，使用胶合、光胶或深化光胶的方法将器件全固化为简单紧凑的三明治结构。利用石墨烯、碳纳米管材料可饱和吸收波长范围宽、导热性好的特点可实现微片激光器不同波长的宽带脉冲调制和良好的散热特性。本实用新型具有光学体积小、全固化易维护、波长调制范围宽的优点，可降低脉冲微片激光器的工艺难度和生产成本，有着广泛应用前景。
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Type： 实用新型
Patent No.： CN201120449423.3
Filing Date： 2011-11-14
Publication Date： 2012-07-04
Pub. No.： CN202308764U
Applicants： 北京工业大学
Legal Status： 未缴年费
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