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采用磁控溅射法在石英衬底上制备出结晶性良好的氧化锌薄膜,并在氧气气氛中不同温度(100～800℃)下进行退火处理.然后利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及椭偏仪对其结晶性能和光学性能进行了表征,探讨了退火温度对薄膜光学性能的影响,并分析其原因.研究表明:退火可以使c轴生长的薄膜取向性增强;同时晶粒尺寸增大,表明粗糙度也会增加.所测得的薄膜折射率变化范围为1.775～2.059,其中退火温度为500℃时对应相同波长的折射率最大,变化范围为1.894～2.059.
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微纳电子技术
ISSN： 1671-4776
Year： 2015
Issue： 2
Volume： 52
Page： 93-97
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