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分别对不同生长速度的DKDP晶体进行了退火处理.结果表明,适当温度的退火处理能有效地提高晶体的光学均匀性,尤其是对快速生长的晶体质量提高更为显著.在实验温度范围内,退火温度越高,质量改善越明显.对退火机理进行了初步讨论.
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Source ：
人工晶体学报
ISSN： 1000-985X
Year： 2006
Issue： 3
Volume： 35
Page： 532-535
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