Indexed by：
Abstract：
介绍了化学气相沉积法(CVD)制备难熔金属钼膜层的原理和方法.以MoF6和H2为原料,采用化学气相沉积法在纯铜基体上沉积出难熔金属钼膜层.分析研究了沉积层的组织、结构和硬度.实验结果表明:沉积膜层显微组织随沉积温度变化而不同,沉积温度较低时,沉积层显微组织为细晶层状结构,沉积层硬度可达677×9.8 MPa;沉积温度较高时,沉积层显微组织为致密的柱状晶,硬度稍高于一般烧结钼的硬度.
Keyword：
Reprint Author's Address：
Email：
Source ：
稀有金属材料与工程
ISSN： 1002-185X
Year： 2005
Issue： 12
Volume： 34
Page： 1965-1968
0 . 7 0 0
JCR@2022
ESI Discipline： MATERIALS SCIENCE;
JCR Journal Grade：2
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count： 1
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 7
Affiliated Colleges：
