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采用磁控溅射技术制备出Ba2-xTiSi2+yO8薄膜,研究了溅射工作气压对薄膜结构的影响.实验发现,随气压降低,Ba含量增加、Si含量下降,薄膜趋向于Ba2TiSi2O8结构.此外,降低工作气压还有助于提高薄膜的结晶度及取向度;这一现象与溅射过程中溅射粒子平均自由程的变化密切相关:工作气压降低,使Ba离子平均自由程提高,到达衬底表面Ba原子数量增加、能量上升,抑制了Ba缺失现象,提高了薄膜质量.
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武汉理工大学学报
ISSN： 1671-4431
Year： 2005
Issue： 7
Volume： 27
Page： 1-3
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
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