研究了用氢化非晶硅薄膜红外透射谱的摇摆模和伸缩模计算氢含量的两种方法,分析了这两种方法在计算薄膜氢含量时引起差别的原因.理论推导及实验结果表明,若将SiH2和(SiH2)n含量大小用结构因子F=(I840+I880)/I2000来表示,则在F值较小的情况下,薄膜折射率接近3.4或拟合厚度值d=0.71~0.89μm时,两种计算方法得到的氢含量很接近.研究还发现,制备工艺对薄膜的键结构及组分有很大的影响,不同的制备方法薄膜中形成的SiH2和(SiH2)n含量不同,F值大的样品均匀性差(表现为这些样品实测厚度值与拟合厚度值有较大的差异);　同时在这种情况下,两种方法计算得到它们的氢含量值相差较大,但CAT　CVD辅助MWECR　CVD制备方法,能有效地抑制SiH2和(SiH2)n的形成.