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黄静 (黄静.) | 郭霞 (郭霞.) | 渠红伟 (渠红伟.) | 廉鹏 (廉鹏.) | 朱文军 (朱文军.) | 邹德恕 (邹德恕.) | 沈光地 (沈光地.)

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Abstract:

根据制备垂直腔面发射激光器(VCSEL)电流限制层的需要,通过实验方法研究了氧化温度、Al组分和晶向等条件对AlGaAs氧化速率的影响,得到适用于VCSEL的材料参数和氧化条件;对氧化后表面分层、欧姆接触特性变差等现象进行分析,得到解决或改善方案.比较AlAs和Al0.98Ga0.02As氧化特性及氧化后的热稳定性,结果表明Al0.98Ga0.02As较AlAs更适于作VCSEL电流限制层.将优化的氧化条件及材料参数应用于VCSEL制备,得到室温连续工作的VCSEL器件,其阈值电流为0.8 mA,激射波长为980 nm,工作电流为15 mA时输出功率可达3.2 mW.

Keyword:

氧化 VCSEL AlGaAs

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Source :

半导体光电

ISSN: 1001-5868

Year: 2003

Issue: 5

Volume: 24

Page: 341-343,349

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