Abstract:
介绍了稀土钼金属陶瓷阴极、钪钨基扩散阴极及化学气相沉积法制备钨涂层。为了满足大功率磁控管的发展要求,研究了新型稀土钼金属陶瓷阴极。经过高温激活处理后,材料的最大次级发射系数达5.24,实用管型测试结果表明,稀土钼金属陶瓷阴极的性能优于钡钨阴极,显示了良好的应用前景。亚微米结构的钪钨基扩散阴极具有优异的热发射性能,850℃下阴极的发射电流密度可达42A/cm2,激活后Ba,Sc,O等元素形成的活性多层,均匀覆盖在阴极表面,促进了阴极的发射。采用热壁开管气流CVD法,以WF6和H2为反应源气体,可以方便地制备成难熔金属钨沉积层。所获得钨沉积层具有高纯度(>99%)和高致密度(>19g/cm3)。
Keyword:
Reprint Author's Address:
Email:
Source :
Year: 2009
Issue: 总第213期
Language: Chinese
Cited Count:
WoS CC Cited Count: 0
SCOPUS Cited Count:
ESI Highly Cited Papers on the List: 0 Unfold All
WanFang Cited Count:
Chinese Cited Count:
30 Days PV: 1
Affiliated Colleges: