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Abstract:

<正> 氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜是硅基薄膜太阳电池的核心材料,而且作为薄膜场效应晶体管在电子摄像,大面积平板显示器等领域的应用也有很大进展。高光敏性及高稳定型的a-Si∶H薄膜的制备,始终是硅基薄膜太阳电池研究和应用中的关键技术,受到各国相关领域的高度重视。我们采用热丝辅助的MW ECR-CVD系统制备氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜。MW ECR-CVD系统产生的等离子体具有能量转化率高,气体分解率高、激发态产物种类较多和基团浓度高

Keyword:

光照稳定性 氢化非晶硅 a-Si:H MW-ECRCVD 硅基薄膜太阳电池

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  • [ 1 ] 北京工业大学材料科学和工程学院
  • [ 2 ] 北京工业大学应用数理学院
  • [ 3 ] 兰州大学物理科学与技术学院

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Year: 2005

Language: Chinese

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