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罗俊锋 (罗俊锋.) | 王俊忠 (王俊忠.) | 张隐奇 (张隐奇.) | 吉元 (吉元.) | 牛南辉 (牛南辉.) | 郭霞 (郭霞.) | 沈光地 (沈光地.)

Abstract:

<正>电子背散射衍射(EBSD)技术被广泛用于晶体取向分析。其主要功能是通过收集和标定EBSD菊池衍射花样,进行晶粒取向测量和物相鉴定。由于应变晶体使衍射信息降低、菊池花样质量下降,可通过测量EBSD菊池带的变化来评价弹性和塑性应变。EBSD在分析晶体应变方面具有很高的空间分辨率(几十纳米)和应变敏感性(0.01%)。Troost等人通过对比Si衬底和Si1-xGex外延层的菊池带宽度的变化,评价了外延层的弹性应变。Wilkinson等人通过增大样品与荧屏之间的距离,及利用交叉相关函数,分析了SiGe/Si结构中的弹性应变和小角度晶格转角。菊池衍射花样的图像质量也可以用来表征局域应变场。

Keyword:

GaN 外延层 弹性应变 应变场

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  • [ 1 ] 北京工业大学光电子技术实验室
  • [ 2 ] 北京工业大学固体微结构与性能研究所

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Year: 2005

Language: Chinese

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