Abstract：
＜正＞一、引言:物理气相沉积通常包括真空蒸镀,溅射镀及离子镀。离子镀膜技术是真空蒸镀及溅射镀的结合,基本特点即是金属蒸汽原子在从蒸发源到基板(被镀金属)的迁移过过程中,其中一部分被电离成金属离子,并在电场的加速下沉积在基板表面形成膜层。因此该工艺具有较好的镀膜绕射性,镀制的膜层均匀致密,膜一基结合力强
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Year： 1992
Language： Chinese
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