Abstract：
采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法在Si 基底上制备BN 纳米薄膜，研究了不同生长参数对BN 纳米薄膜形貌及性能的影响。并对BN 纳米薄膜退火前后进行了红外、拉曼及HRTEM 微结构表征及场发射性能测试分析。
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Year： 2016
Page： 1-1
Language： Chinese
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