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孙国立 (孙国立.) | 秦飞 (秦飞.) | 代岩伟 (代岩伟.) | 李宝霞 (李宝霞.)

Abstract:

随着电子封装技术的发展,以晶圆级封装为代表的先进封装技术对集成密度、封装尺寸,及其制造和服役可靠性提出了更高的要求.TSV晶圆封装结构具有典型的结构多尺度特征,这对有限元模型的建立带来很大挑战.为此,本文提出了 一种层级多尺度方法,并验证了所提方法的有效性.围绕上述研究内容,首先,阐明了层级多尺度方法的原理和计算流程;其次采用层级多尺度方法建立了不同TSV晶圆封装工艺下的有限元模型,模拟研究了 TSV转接板工艺制程中晶圆的翘曲演化,并与实验结果相对比;最后,研究了分区数量对层级多尺度方法精度的影响.研究结果表明,计算规模相当情况下,随着分区数量的增加,计算误差明显降低.与实验结果的对比表明,该方法有相对较高的晶圆翘曲预测精度.此外,本文发展的层级多尺度方法具有一定的可移植性,可以应用到其它同类具有多尺度特征的封装结构可靠性分析中,为解决大规模晶圆级封装翘曲预测问题提供了 一种新的解决思路.

Keyword:

封装 有限元模型 翘曲 TSV晶圆 层级多尺度方法

Author Community:

  • [ 1 ] [代岩伟]北京工业大学
  • [ 2 ] [李宝霞]西安微电子技术研究所
  • [ 3 ] [孙国立]北京工业大学
  • [ 4 ] [秦飞]北京工业大学

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Source :

微电子学与计算机

ISSN: 1000-7180

Year: 2023

Issue: 1

Volume: 40

Page: 130-137

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