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本发明公开了非共线反铁磁与铁磁两相共存Mn3Ge薄膜及其制备方法与应用。本发明两相共存Mn3Ge薄膜包括非共线反铁磁Mn3Ge六角相与铁磁Mn3Ge四方相两相共存。本发明两相共存Mn3Ge薄膜的制备方法及图案化的两相共存Mn3Ge霍尔bar的制备方法，包括如下步骤：在衬底上采用磁控溅射方法通过调节生长温度生长，得到两相共存Mn3Ge薄膜；对两相共存Mn3Ge薄膜进行光刻胶匀胶、曝光、显影、刻蚀、去胶，即得到图案化的两相共存Mn3Ge霍尔bar。本发明通过调节生长温度实现了非公线反铁磁与铁磁两相共存Mn3Ge薄膜的可控生长与反常霍尔效应的调控，从而获得了具有大反常霍尔效应和抗磁干扰性能优异的自旋存储材料，能够大大拓展Mn3Ge薄膜在自旋存储领域的应用。
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Type： 发明申请
Patent No.： CN202211316081.7
Filing Date： 2022-10-26
Publication Date： 2023-03-07
Pub. No.： CN115747954A
Applicants： 北京工业大学
Legal Status： 实质审查
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