Indexed by:
Abstract:
一种透射电镜中原位测量一维纳米材料疲劳性能与微观结构相关性的装置及方法,属于纳米材料显微结构原位测试及表征技术领域。包括芯片部分,支撑部分和操控电路三部分。支撑部分为安装在透射样品杆上的支架和排线,电路部分为与芯片链接的导线和能够施加不同波形、可变电压与可变频率的电源。本设计突破了传统的机械应力驱动疲劳性能的测试方法,利用电压形成的电场并通过调节电压的大小和频率,实现不同振幅和周期的可控调节,使一维纳米材料在电场中发生振动实现疲劳性能的测试;同时利用透射电镜原位观察一维纳米材料疲劳实验过程中原子层次微观结构的演变过程,直接建立疲劳性能与微观结构的相关性。
Keyword:
Reprint Author's Address:
Email:
Patent Info :
Type: 发明申请
Patent No.: CN202210898463.9
Filing Date: 2022-07-28
Publication Date: 2022-11-18
Pub. No.: CN115356221A
Applicants: 北京工业大学
Legal Status: 实质审查
Cited Count:
WoS CC Cited Count: 0
SCOPUS Cited Count:
ESI Highly Cited Papers on the List: 0 Unfold All
WanFang Cited Count:
Chinese Cited Count:
30 Days PV: 7
Affiliated Colleges: