Indexed by:
Abstract:
本发明公开了一种避免泵浦光漂白被动调Q晶体的微片激光器,包括泵浦源、泵浦耦合系统、增益介质、抑制ASE晶体、被动调Q晶体、泵浦光和激光分离结构。在微片激光器一侧切45°角结构,泵浦光和激光通过此面的膜被分离开,避免了泵浦光对被动调Q晶体的漂白。通过热键和技术,各晶体有效牢固地结合,可提高激光器的稳定性,利于实现微片激光器的小型化。且键合后的晶体结合界面稳定,有利于晶体散热。本发明广泛应用于其他测距用的固体激光器中,易于实现小型化、大能量、窄脉宽的目标,易于实现工程应用。本发明完全避免泵浦光进入可饱和吸收调Q晶体中,从而避免了泵浦漂白问题,提高振荡激光输出的单脉冲能量,减小脉冲宽度。
Keyword:
Reprint Author's Address:
Email:
Patent Info :
Type: 发明申请
Patent No.: CN202010541050.6
Filing Date: 2020-06-15
Publication Date: 2020-10-13
Pub. No.: CN111769434A
Applicants: 北京工业大学
Legal Status: 驳回
Cited Count:
WoS CC Cited Count: 0
SCOPUS Cited Count:
ESI Highly Cited Papers on the List: 0 Unfold All
WanFang Cited Count:
Chinese Cited Count:
30 Days PV: 5
Affiliated Colleges: