Indexed by：
Abstract：
一种聚焦光系统的掠入射X衍射测试技术属于X衍射领域。其特征在于：采用常规的点光源X衍射仪，通过设定一组相同的发散狭缝DS和防散射狭缝SS达到近平行光源，采用一固定的掠入射角ω和2θ扫描模式，即固定Theta轴、2Theta轴旋转，进行掠入射X衍射；得到的衍射数据需要通过一个基于掠入射角ω的宽度校正以消除发散光源的影响。本发明通过X衍射分析软件对以上数据进行分析，得到正确的物相分析结果和近似的晶粒大小，不需配备专门的平行光系统和经历繁琐的调光过程。这一方法适于薄膜材料。
Keyword：
Reprint Author's Address：
Email：
Patent Info ：
Type： 发明申请
Patent No.： CN201911086476.0
Filing Date： 2019-11-08
Publication Date： 2020-02-21
Pub. No.： CN110823933A
Applicants： 北京工业大学
Legal Status： 撤回-视为撤回
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count：
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 0
Affiliated Colleges：
