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一种用于TEM的双倾斜原位纳米压痕平台，属于材料力学性能-微观结构关系在纳米和原子尺度原位表征领域。 平台由粘接区，支撑梁，承载梁，加样台和微型压头组成。 平台整体结构采用半导体微加工技术制备。 原位纳米压痕实验可用双金属带材，V形电热梁，压电陶瓷，静电梳状或形状记忆合金等驱动。 所述样品通过聚焦离子束切割获得。 所述集成平台可以放置在TEM样品架前端的狭窄空间内，造成双轴倾斜的情况。 驱动装置驱动微型压头对TEM中的材料进行原位纳米压痕，原位压缩和原位弯曲等。 可在亚埃，原子，纳米尺度原位观察材料的形变过程，研究材料的形变机理，进而揭示材料微观结构与力学性能的关系。
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Type： 发明授权
Patent No.： US15510627
Filing Date： 2016-11-11
Publication Date： 2019-09-10
Pub. No.： US10410822B2
Applicants： Beijing University Of Technology
Legal Status： 授权
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