Indexed by:
Abstract:
一种薄层石墨烯/二硫化钼侧向异质结的制备方法,涉及到二维材料异质结制备领域。采用在硅/二氧化硅衬底上直接机械剥离制备薄层石墨烯材料,然后运用化学气相沉积的方法直接在上述衬底上沉积二硫化钼材料,实现由所述两种材料构成的侧向异质结的形成。本发明获得异质结材料的方法工艺简单,并且基础工艺成熟,能够避免传统方法中带来的一些对材料的污染,大大提高了石墨烯/二硫化钼异质结材料制备的成功率,减小了制备的难度,为将来异质结材料的量化生产提供了一种良好的思路和方法。
Keyword:
Reprint Author's Address:
Email:
Patent Info :
Type: 发明申请
Patent No.: CN201710578166.5
Filing Date: 2017-07-16
Publication Date: 2017-12-15
Pub. No.: CN107481924A
Applicants: 北京工业大学
Legal Status: 撤回-主动撤回
Cited Count:
WoS CC Cited Count: 0
SCOPUS Cited Count:
ESI Highly Cited Papers on the List: 0 Unfold All
WanFang Cited Count:
Chinese Cited Count:
30 Days PV: 10
Affiliated Colleges: