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本发明涉及一种在扫描电子显微镜中，注入微量 氧气，在氧环境中对非导电材料直接进行观察和分析的方法及 系统。特征在于：在扫描样品前，将微量活性氧气注入样品室 内，以减小和消除非导电样品荷电现象。注入氧气前先选择真 空模式，氧气通过减压阀减压，用真空计和真空规监测样品室 内的真空度，由针阀继续降低氧气流量；注入的氧气对扫描电 镜系统真空度的影响非常小，实现了在不同真空模式下的氧环 境观察条件；配合氧环境扫描电子显微方法的氧气微注入系统 设置在样品室侧壁上，主要包括有供气回路、真空检测系统及 吸收电流测试系统。本发明完成了简便而有效地消除氧化物、 氢氧化物等类非导电样品进行电子显微分析时产生荷电效应 的目的。
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Type： 发明申请
Patent No.： CN200410078331.3
Filing Date： 2004-09-24
Publication Date： 2005-03-02
Pub. No.： CN1587978A
Applicants： 北京工业大学
Legal Status： 撤回-视为撤回
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