Abstract：
传统主流的抛光方式主要包括机械抛光、化学抛光、超声波抛光、流体抛光、磁研磨抛光、电化学抛光这几种,明显的缺陷特点在于都只能达到微米级或亚微米级表面粗糙度,精度不够且难以再提升.
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ISSN： 2095-4409
Year： 2024
Issue： 4
Page： 68-70
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