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用电子束蒸发法制备氮化硼薄膜,分别研究束流大小和蒸发时间长短对薄膜质量的影响,薄膜以红外吸收光谱标识.实验结果表明,柬流大小和蒸发时间长短对薄膜质量都有影响,经过900℃氮气保护退火后,都得到了高立方相含量的氮化硼薄膜.
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Source ：
光散射学报
ISSN： 1004-5929
Year： 2009
Issue： 4
Volume： 21
Page： 309-311
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