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王青 (王青.) | 阴生毅 (阴生毅.) | 胡跃辉 (胡跃辉.) | 朱秀红 (朱秀红.) | 荣延栋 (荣延栋.) | 周怀恩 (周怀恩.) | 陈光华 (陈光华.)

Indexed by：

CQVIP PKU CSCD

Abstract：

采用MW-ECR　CVD方法制备的a-Si:H薄膜在模拟太阳光照射下进行光敏性(σp.σ　d)和光致衰退测试.对比了有、无热丝辅助沉积的薄膜的光电特性,得出沉积温度是影响薄膜光敏性的主要因素,而适当温度的热丝辅助对于薄膜的光致衰退有一定延缓作用.

Keyword：

氢化非晶硅 氢含量 光致衰退 光敏性

Author Community：

  • [ 1 ] [王青]北京工业大学
  • [ 2 ] [阴生毅]北京工业大学
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  • [ 5 ] [荣延栋]北京工业大学
  • [ 6 ] [周怀恩]北京工业大学
  • [ 7 ] [陈光华]北京工业大学

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ISSN： 1001-9731

Year： 2004

Issue： z1

Volume： 35

Page： 3198-3200,3204

Cited Count：

WoS CC Cited Count： 0

SCOPUS Cited Count：

ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All

WanFang Cited Count： 3

Chinese Cited Count：

30 Days PV： 8

Affiliated Colleges：

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