Abstract：
＜正＞a-Si:H薄膜在太阳能电池、薄膜晶体管、大面积平面显示和传感器等光电器件上有广阔的应用前景.近来,为了获得高质量、高沉积速率的a-Si:H薄膜,MW ECR CVD在国际上越来越受到人们重视.与其它几种传统的CVD技术相比,MW ECR CVD具有以下特点:运行气压低,ECR等离子体的工作气压一般在10~(-2)～IPa;能量转化率高,95%以上的微波能量
Keyword：
Reprint Author's Address：
Email：
Source ：
Year： 2001
Language： Chinese
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count：
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 11
Affiliated Colleges：
