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郭勇 (郭勇.) | 吴郁 (吴郁.) | 金锐 (金锐.) | 李立 (李立.) | 李彭 (李彭.) | 刘晨静 (刘晨静.)

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CQVIP

Abstract:

表面钝化技术是半导体器件制造过程中的重要工艺环节,对器件的电学特性和可靠性有重要影响。文中侧重于功率器件领域,回顾了各种高压结终端所需的不同钝化工艺,包括平铺叠加的复合介质膜、有机聚合物覆盖、玻璃或有机聚合物填充等。综述了钝化工艺中所采用的各种钝化材料的性质和功能,给出了它们在功率器件结构中的典型数据,包括二氧化硅、磷硅玻璃、氮化硅、氮氧化硅、三氧化二铝、半绝缘多晶硅、聚酰亚胺(PI)、玻璃料等,并对新近用于钝化的苯并环丁烯、氢化无定形碳化硅和氢化无定形碳等材料进行了介绍和展望。

Keyword:

结终端结构 钝化材料 功率器件 钝化工艺

Author Community:

  • [ 1 ] 北京工业大学信息学部
  • [ 2 ] 全球能源互联网研究院

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Source :

电子科技

Year: 2017

Issue: 12

Volume: 30

Page: 130-135

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