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利用直流磁控溅射在SiO2/Si双层基底上制备厚度为60 nm的银纳米晶体薄膜,使用纳米压痕仪对其进行压痕,使用原子力显微镜对压痕区域进行形貌表征,将压痕后的银薄膜转移到透射电子显微镜中观察研究微结构变化.结果表明,压痕区域呈正三角形,边缘有堆起现象；压痕前沉积态薄膜的晶粒较小呈等轴状,压痕后晶粒较大一般呈条带状,长度方向垂直于压痕边缘；压痕区域内的晶粒内出现了大量的形变孪晶,孪晶方向一般亦垂直于压痕边缘.
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电子显微学报
ISSN： 1000-6281
Year： 2011
Issue： 6
Volume： 30
Page： 483-487
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