• Complex
  • Title
  • Keyword
  • Abstract
  • Scholars
  • Journal
  • ISSN
  • Conference
搜索

Author:

王霄翔 (王霄翔.) | 龙连春 (龙连春.) | 斯琴毕力格 (斯琴毕力格.) | 陈世斌 (陈世斌.)

Abstract:

化学气相沉积(CVD)法是目前制备C/C复合材料的首选方法,沉积炉内流场的均匀性直接影响目标产物的质量及产量。本文建立了CVD法制备C/C复合材料的沉积炉内气体流动仿真模型,采用计算流体力学方法对沉积炉内流场进行模拟,并研究主要工艺参数对沉积炉内流场分布的影响规律。结果表明,产品区域气体呈现低速均匀的流动特征,真空度增大会导致沉积炉内气体流速显著增加,但对流场均匀性几乎无影响;采用各路相同的送气方式时沉积炉内流场分布比中心增大的送气方式更均匀;较小进气量可以使沉积炉内流场更均匀。

Keyword:

化学气相沉积 C/C复合材料 数值模拟 流场

Author Community:

  • [ 1 ] 北京工业大学材料与制造学部
  • [ 2 ] 北京北方华创真空技术有限公司

Reprint Author's Address:

Email:

Show more details

Related Keywords:

Source :

炭素技术

Year: 2023

Issue: 03

Volume: 42

Page: 16-22

Cited Count:

WoS CC Cited Count: 36

SCOPUS Cited Count:

ESI Highly Cited Papers on the List: 0 Unfold All

WanFang Cited Count:

Chinese Cited Count:

30 Days PV: 25

Online/Total:1207/10531803
Address:BJUT Library(100 Pingleyuan,Chaoyang District,Beijing 100124, China Post Code:100124) Contact Us:010-67392185
Copyright:BJUT Library Technical Support:Beijing Aegean Software Co., Ltd.